Description des produits
Le four à diffusion d'oxydation est un équipement de processus clé pour la production de cellules PV. Il mélange et diffuse des traces de traces de bore, de phosphore et d'autres éléments sur la tranche de silicium à des températures élevées pour préparer des jonctions PN et compose des circuits intégrés à partir de celui-ci. Il peut également être utilisé pour préparer des films Siox à la surface de la tranche de silicium pour protéger les plaquettes.
Il est courant d'utiliser des thermocouples mesurant les parties intérieures et extérieures du four pour contrôler la température intérieure de la fournaise de diffusion qui pourrait effectuer le processus d'oxydation. Chaque zone de température spécifiée a un thermocouple extérieur et intérieur pour s'assurer que les résultats de mesure sont fiables. Les thermocouples intérieurs sont utilisés pour mesurer la température de la tranche, il a généralement 3 ~ 9 points de mesure, représentant la température de la tranche avec précision. Les thermocouples externes sont utilisés pour détecter la surface extérieure du tube de la fournaise, chacun n'a généralement qu'une seule paire de fils, pour donner une mesure indirecte de la fournaise. Habituellement, la température du processus d'oxydation est inférieure à celle du processus de diffusion, donc, le thermocouple BF multipoint principal de type K et N pourrait être déployé.
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Paramètres techniques |
Thermocouple BF multipoint principal |
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À l'intérieur |
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Taper |
K,N |
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Diamètre de fil ou de mim |
φ2~4 |
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Température de travail (degré) |
0~950 |
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Précision (degré) |
± 1,5 ou 0. 4% · t |
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Longueur de tube protecteur (mm) |
Moins ou égal à 4000 |
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Diamètre de tube protecteur (mm) |
φ14~22 |
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Matériau de tube de protection |
310S ou 321 |
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Structure extrémiste chaude |
Isolé |
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Nombre de points |
3 ~ 9 points |
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Terminaison |
Petit connecteur |
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Fil de compensation |
Kx (nx) {{0}} × 0,5fpf |
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Caractéristiques de la structure |
Facile à démonter, T / C pour n'importe quel point peut être supprimé si nécessaire |
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